用途：在 OSMO 上端到端编排缺陷图像生成、增强与标注流水线，服务于 AOI（自动光学检测）数据集。AnomalyGen 基于 Cosmos-Predict2-2B 按用例微调，提供 Cosmos-AnomalyGen-PCB-2B、-Metal-2B、-Glass-2B。每个流程在 assets/configs/ 下有对应的 OSMO 工作流 YAML，非交互式串联全部步骤；assets/cookbooks/ 提供 PCBA 的 usd2roi/image-edit 配置与各用例的 AnomalyGen 训练配置。
主要能力与流程：Day 0 纹理缺陷（usd2roi → Qwen Image-Edit 增强 → 微调或直通 → 推理内联标注，含缺件）；Day 0 好图生成（usd2roi-render + Qwen Image-Edit 外观迁移）；Day 0 结构缺陷（IsaacSim 位姿扰动 shift/tombstone/sideflip + 逐元件裁剪 → Qwen Image-Edit 光照迁移）；Day 1 推理+标注（真实照片对齐为 PCBA 默认，或手动 ROI 用于金属/玻璃）；仅微调流程。ChangeNet 金样/缺陷对通过两次提交、相同 --set name= 配对。
使用方式：先做首次门控，必须通过 AskUserQuestion 获取 dig_url_root（不可静默默认，s3://osmo-workflows/dig 仅为待确认建议），并确认 OSMO --pool、Pod 模板、Day 0 的 image-edit 端点。随后按顺序运行 preflight_credentials.sh、preflight_pod_template.sh、preflight_urls.sh <flow> <usecase>，每次提交前重新生成 $STAMP 并传 --set name=<flow>-$STAMP。提交后按 references/monitoring.md 轮询，用 osmo workflow query、osmo workflow logs、osmo data download 获取结果。
适用场景：PCBA、金属表面、玻璃检测的缺陷数据合成与标注。
限制：所有流程运行于 OSMO；Day 0 需要 image-edit 端点；结构缺陷输出对 render_patches 非线性，且无 crop_max_emit；crop_max_emit 与 render_patches 分属不同阶段，不可混用；模糊请求须先消歧。具体收费、价格与效果资料暂未提供。